產(chǎn)品中心
PRODUCT CENTER
HAMAMATSU濱松晶圓玻璃薄膜厚度測量儀C10178-03E
應(yīng)用：高速測量晶圓、玻璃和薄膜的厚度。（測量范圍：玻璃：1 nm 至 20 μm，硅：0.43 nm 至 8.6 μm）
Optical NanoGauge 膜厚測量系統(tǒng) C10178 是一種利用光譜干涉法的非接觸式膜厚測量系統(tǒng)。通過光譜干涉法以高靈敏度和高精度快速測量薄膜厚度。我們的產(chǎn)品使用多通道光譜儀 PMA 作為探測器，可以測量量子產(chǎn)率、反射、透射/吸收和各種其他點，同時測量各種濾光片和涂層膜的厚度等。
特點
- 高速和高精度（測量薄膜厚度范圍（玻璃）：150 nm～50 μm）
- 實時測量
- **測量起伏不定的薄膜
- 分析光學(xué)常數(shù)（n、k）
- 提供外部控制
- 量子產(chǎn)率、反射率、透射率和吸收率可通過具體的附件測量
詳細參數(shù)
*2：測量 400 nm 厚玻璃膜時的標準偏差（容差）。
*3：取決于使用的光學(xué)系統(tǒng)或物鏡放大率。
*4：VLSI 標準測量保證文件中記錄的測量保證范圍。
*5：*短曝光時間。
尺寸
特點
?用于超薄薄膜測量（玻璃：1 nm 起，硅：0.43 nm 起）
?高精度（測量可再現(xiàn)性：≤ 0.1 nm）*測量 2 nm 厚度的二氧化硅 (SiO2) 時
?使用大功率白光源
?使用壽命長（維護周期：1 年以上）
?支持 PLC 連接
?縮短周期時間（高達 200 Hz）
?涵蓋寬波長范圍（200 nm 至 790 nm）
?軟件中添加了簡化的測量
?能夠同時進行表面分析
?在距離存在波動的條件下提高測量穩(wěn)定性
?分析光學(xué)常數(shù)（n、k）
詳細參數(shù)
*1 當以玻璃折射率 1.5 進行轉(zhuǎn)換時。
*2 當以玻璃折射率 3.67 進行轉(zhuǎn)換時。
*3 這是轉(zhuǎn)換為硅折射率的計算值 (3.67)。
*4 測量 2 nm 厚玻璃薄膜時的標準偏差（公差）。
*5 取決于使用的光學(xué)系統(tǒng)或物鏡放大率。
*6 測量 30 μm 厚標準具時的標準偏差（容差）。
*7 VLSI 標準測量保證文件中記錄的測量保證范圍。
尺寸
